ME-210-T膜厚測(cè)量?jī)x適用透明基板的高速M(fèi)apping橢偏儀，可測(cè)量透明基板上的光阻膜及配向膜分布。

橢偏儀為一種光學(xué)系膜厚測(cè)量裝置，膜厚測(cè)量?jī)x這個(gè)裝置的特點(diǎn)是可以高精度測(cè)量1nm一下的極薄膜，也適合測(cè)量玻璃等透明基板上的薄膜。

ME-210-T膜厚測(cè)量?jī)x用了本公司*的偏光Senor 技術(shù)，將不能變?yōu)榭赡埽酝募夹g(shù)是無(wú)法測(cè)量0.5mm厚的玻璃基板，在這項(xiàng)技術(shù)下，可進(jìn)行極薄膜的高精度測(cè)量，舉例來(lái)說(shuō)顯示器用的ITO膜或配向膜的評(píng)估，也可運(yùn)用ME-210-T輕松達(dá)成。

ME-210-T的高精度膜厚分布資料，定會(huì)對(duì)優(yōu)良的薄膜產(chǎn)品的生產(chǎn)有的用途。

特點(diǎn)

1，高效的測(cè)量速度（每分約1000點(diǎn)：）可短時(shí)間內(nèi)取得高密度的面分布數(shù)據(jù)。

2，微小領(lǐng)域量測(cè)（20un左右）可簡(jiǎn)單鎖定&測(cè)量任一微小區(qū)域。

3，可測(cè)量透明基板

適用于解析玻璃基板上的極薄膜。

測(cè)量實(shí)例

涂布膜邊緣擴(kuò)大測(cè)量

可階段性擴(kuò)大微小領(lǐng)域，然后獲得詳細(xì)的膜厚分布數(shù)據(jù)。

GaAs Wafer 上酸化膜厚的分布測(cè)量

縮小膜厚顯示范圍，膜厚差距不大的樣品，也可以簡(jiǎn)單評(píng)估、比較其分布狀況。

設(shè)備參數(shù)